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  • LX-20A制冷循環低溫冷凍機
    LX-20A制冷循環低溫冷凍機

    更新時間:2026-01-14

    型號:LX-20A

    瀏覽量:3807

    制冷循環低溫冷凍機半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-145低溫制冷循環器
    LX-145低溫制冷循環器

    更新時間:2026-01-14

    型號:LX-145

    瀏覽量:8158

    低溫制冷循環器使用范圍:對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-0250低溫冷卻循環器泵
    LX-0250低溫冷卻循環器泵

    更新時間:2026-01-14

    型號:LX-0250

    瀏覽量:4796

    低溫冷卻循環器泵采用阿斯帕拉、丹弗斯、美優樂、谷輪等品牌壓縮機,性能穩定,可持續工作,微電腦溫度控制器,溫度數字顯示,調節單位0.1度,溫度范圍5度~35度可調。
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  • 制冷循環冷水機
    制冷循環冷水機

    更新時間:2026-01-14

    型號:

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    制冷循環冷水機使用范圍:對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。其他產業用機器發熱部分的冷卻:
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  • LX-70低溫冷卻循環器泵
    LX-70低溫冷卻循環器泵

    更新時間:2026-01-14

    型號:LX-70

    瀏覽量:3314

    LX-70低溫冷卻循環器泵對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
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  • LX-40制冷循環器
    LX-40制冷循環器

    更新時間:2026-01-14

    型號:LX-40

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    LX-40制冷循環器使用范圍:對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-25制冷循環器
    LX-25制冷循環器

    更新時間:2026-01-14

    型號:LX-25

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    LX-25制冷循環器使用范圍:對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-10制冷循環器
    LX-10制冷循環器

    更新時間:2026-01-14

    型號:LX-10

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    LX-10制冷循環器使用范圍:對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。LX-10產品概述節省水資源,可以使用水兌乙二醇混合液進行循環制冷,節約資源;嚴密的循環管路設計,防止循環水污染。
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